第193章第二百零一二章X射线光刻机
姜凡手指敲打着桌面，开始查看辅助智脑提供的芯片技术。
对已有科技的升级改造，辅助智脑是专业的，他不知道这是辅助智脑的能力，还是有薪火学院主脑的协助，不过他不在意这个，只要有科技就行。
很快他就查到了硅基芯片科技的极限，0.12nm，还真的是单层硅原子的厚度。
但要达到极限的0.12nm，需要改进的科技很多。
姜凡想了一下，说道：“你先说一下X射线光刻机的优缺点。”
“至于是做0.24nm还是1nm，等我了解了情况再说。”
沈坤盯着姜凡看了一会，他感觉这个老板有些不靠谱，什么叫了解了情况在说？
说得想要什么科技就有什么科技一样。
但他没有继续跟姜凡辩驳，俗话事不过三，姜凡已经要求了两次，他再次反驳的话，老板就该生气了。
老板是有些不靠谱，但谁叫老板是他现在的金主呢！
就算外行指导内行，只要给他的研究项目打钱，那就可以满足老板。
沈坤清清嗓子，直接说道：“要介绍X射线光刻机，不得不提一下极紫外线光刻机，现在主流的芯片光刻机都是极紫外线光刻机，最先进的也是极紫外线光刻机。”
“两种光刻机的区别有很多。”
“x射线光源的波长断，具有强大的穿透性，最大的优势在于他可以做出高深宽比的图形，更容易将电子线路和功能“印进”晶圆（单晶硅片）之中。
但X光线也有大问题，由于它的穿透性太强，导致了无法用透镜进行放大和缩小，而极紫外线可以进行放大缩小，这也是波长10nm的极紫外线可以造出2nm芯片的原因。
由于X射线无法用透镜进行放大和缩小，因此图形尺寸和掩模版的尺寸相同。
例如100nm尺寸的图形需要100nm尺寸的掩模版，所以x射线光刻过分依赖电子束光刻掩模版的精度。”
“现在X射线的光刻机能达到30nm的程度，跟现在主流的2nm光刻机差距太大，X射线光刻机已经被淘汰。”
“如果您想让X射线光刻机精度达到1nm，你需要先把能放大缩小X射线的透镜做出来。”
姜凡点点头，查看辅助智脑给他的芯片科技，很快就找到了其中的透镜，这个透镜跟他预期的有点区别，制作过程中涉及到了暗能，制作这个透镜的原材料是一种新型的化合物，一般的化学反应，暗能浓度是一个常量，跟常温常压之类的条件一样。
按照芯片科技中透镜技术的描述，要制作这种化合物，需要改变暗能浓度这个常量，好在这个暗能浓度数值是固定的，所以他只要建造一间暗能浓度固定的生产车间就行了，这个不用担心泄露暗能的秘密。
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